上证报中国证券网讯(记者刘礼文)8月28日晚，中微公司发布2025年半年度报告。2025年上半年，公司实现营业收入49.61亿元，同比增长约43.88%；实现归母净利润7.06亿元，同比增长36.62%。这一数据延续了中微公司过去14年营收年均增长超35%的强劲势头。同时，公司研发投入达14.92亿元，同比大幅增长53.7%，研发费用占营收比重突破30%，远高于科创板上市公司的平均研发投入水平。
具体来看，占公司收入75%以上的主打设备——等离子体刻蚀设备，2025年上半年销售37.81亿元，同比增长约40.1%。目前，中微刻蚀设备已覆盖95%以上的刻蚀应用，技术能力延伸至5纳米及更先进制程，市场占有率持续提升并不断收到领先客户批量订单。
薄膜沉积设备方面，2025年上半年，中微公司LPCVD(低压化学气相沉积)和ALD(原子层沉积)设备销售收入同比增长608.2%，成为业绩增长的新引擎。钨系列产品已全部通过关键存储客户端量产验证，并获批量订单。同期，公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品：ALD氮化钛，ALD钛铝，ALD氮化钽产品，已完成多个先进逻辑客户设备验证，在满足先进逻辑客户性能需求的同时，设备的薄膜均一性，污染物控制和生产效率均达到世界先进水平。该系列设备已付运到先进逻辑客户端进行验证，核准推进顺利。
目前，中微公司还在积极拓展泛半导体市场。其MOCVD设备在氮化镓基LED市场持续领先，并逐步拓展至碳化硅、氮化镓功率器件及Micro-LED等新兴领域。今年公司已付运首台红黄光LED专用的MOCVD设备至国内领先客户开展生产验证。
与此同时，中微公司不断开发出具有市场竞争力的设备并快速进入市场，并将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点，积极考虑投资和并购。在今后的五到十年，中微公司计划通过有机生长和外延扩展，逐步覆盖半导体高端设备的50%到60%，成为一个平台型的集团公司。
面对市场需求的持续增长，中微公司位于上海临港（600848）和南昌高新区的两大生产研发基地产能稳步提升，为公司业绩持续增长提供坚实支撑。位于临港滴水湖的10万平方米总部研发大楼，预计将在2025年底建成，将进一步强化公司研发与运营资源的协同整合。值得一提的是，中微公司已于广州增城区和成都高新区启动新的研发生产基地建设工作，进一步扩展产能布局，为全球客户提供更加高效、稳定的供应链保障。
截至8月28日收盘，中微公司报收225.5元/股，总市值1412亿元。
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